UV光清洗灯（W型灯管）
[1] UV光清洗应用
半导体芯片、掩膜、封装树脂材、水晶振动子、IC储存器回路、机能膜、保护层
液晶玻璃、ITO表面、TN、STN用绝缘膜、配向膜、结合剂表面、石英玻璃、光纤、光刻版、LED元件、光伏硅片
[2] UV表面光清洗原理
高压水银放电管发出的具有代表性的紫外线是365nm，光子能量328 KJ/mol；而低压水银放电管发出的具有代表性的紫外线是253.7nm及184.9nm，光子能量分别为472 KJ/mol和647 KJ/mol;准分子放电管（Xe2*）的波长172nm，光子能量分别为696 KJ/mol。要分解分子的结合，就要使用发出比分子的结合能强的光源。下表列出了主要的化学分子的结合能。由表可知，比365nm线的能量高的分子结合很多，但大多数比172nm线的能量低。准分子放电管和低压放电管要比高压放电管以及其他放电灯更适合表面处理等需要分解有机物的领域，能切断绝大多数的有机分子结合。UV照射固体表面后，表面的污染物有机分子结合被强的光能切断、氧化，而后被分解成CO2和H2O等易挥发性物质，最终挥发消失。表面被清洗后的其清洁度极高，能把膜状的油污清洗到单分子层以下。
化学分子的结合能
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结 合 |
结合(KJ/mol) |
结 合 |
结合(KJ/mol) |
|
H-H |
436.2 |
C-H |
413.6 |
|
H-C |
347.9 |
C-F |
441.2 |
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C=C |
607.0 |
C-N |
291.8 |
|
N-N |
160.7 |
C-O |
351.6 |
|
O-O |
139.0 |
C=O |
724.2 |
|
O=O |
490.6 |
O-H |
463.0 |
[3] UV表面清洗的效果
各种清洗方式处理后玻璃的接触角
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玻璃的清洗方法 |
接触角 |
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无处理的玻璃 |
26 |
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清洗剂→水→碳化氢系溶剂 |
39 |
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清洗剂→纯水 |
17 |
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清洗剂→水→IPA |
13 |
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清洗剂→水→等离子处理（对表面有损伤） |
5 |
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清洗剂→水→UV（玻璃加热） |
4 |
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清洗剂→水→加热→UV |
1 |
[4] UV表面清洗的特点
○ 大气中处理，简单方便，环保无二次污染，无需加热、药液等处理。
○ 清洁度极高，单分子层以下，可以得到从来处理方法难以想象的清洁度、接着性。
○ 国内独有的超高出力短波长紫外线光源，仅需短时间（秒单位）照射，发挥强大的处理能力，从实验室进入产业应用。
○ 不对材料的表面产生损伤。
○ 相对于湿式清洗或等离子清洗成本低。
○ 没有液体表面张力的影响，超微细部的清洗容易。
