UV光清洗灯的清洗

　　UV紫外光通过表面清洗机可用于LCD、OLED显示屏可以生产，及半导体硅晶片、光学系统玻璃、石英晶体、膜块、磁头、集成设计电路、敷铜箔层压板、高精度印制电路板结构以及其他金属、橡胶、塑料等生产中对各种不同表面问题进行光清洗或光改质处理。经清华科技大学应用化学系学习分析研究中心俄歇电子能谱仪检测，对ITO玻璃作为基片之间进行光清洗后，达到了一个原子清洁度。
　　光电产品的高性能和微型化要求越来越高的表面清洁度，传统的清洗方法不能满足要求，紫外光清洗可以达到传统清洗方法难以达到的高清洁度。另外，不存在三废处理问题，有利于环境保护。
　　2.光清洗是在常温、常压的环境中进行的，是一种非接触式的干法处理清洗系统数据信息技术。被清洗的表面工作除了这些光子，不与其他任何一个物体之间发生直接接触，有机物在暴露于紫外线后会发生光敏氧化反应，导致挥发性气体从表面消散，当排气系统被抽出时不能返回清洁的表面，不会产生溶液清洗等二次工业污染。
　　通常，光学清洁表面不会被损坏，因为光子能量与氩等离子体溅射或惰性气体离子轰击的能量相比相对较小，光学清洁后的表面不会被损坏或出现晶体缺陷。
　　一、紫外线表面清洗和改性的工作原理
　　低压紫外汞灯发射的双波段短波紫外光照射到试件表面后，与有机化学污染物之间可以发生光敏氧化技术发展作用,不仅能去除污染物而且能改善管理工作表面的性能，从而影响不断努力提高一个目标物体表面的浸润性和粘合强度，或者使材料科学研究表面没有自己得到中国社会经济稳定的表面信息处理性能。根据企业不同发展要求，不仅可以用紫外光清洗物体表面数据，而且可以用紫外光有效地对物体进行表面改性，紫外光表面清洗和改性的机理是相同的。但也有区别。
　　1.1UV光清洗灯清洗工作原理
　　真空紫外低压紫外汞灯可发出254nm和185nm的紫外光，这两种不同波长的光子产生能量可直接通过打开和切断一个有机知识分子中的共价键，使有机结合分子可以活化、分解成目标离子、自由选择原子、受激分子等。同时，185纳米处的紫外线能量可将空气中的氧气分解为臭氧，而254纳米处的紫外线能量可将氧气分解为氧气和活性氧类，这是一个连续的光敏氧化过程。而由于活性氧类的强烈氧化作用,活性氧类会与活化的有机分子反应，形成挥发性气体，从物体表面逸出，从而彻底清除附着在物体表面的有机污染物。