UV光清洗机

　　UV紫外光清洗机可用于LCD、OLED显示屏生产，及半导体芯片、掩膜、封装树脂材、水晶振动子、IC储存器回路、机能膜、保护层、液晶玻璃、ITO表面、TN、STN用绝缘膜、配向膜、结合剂表面、石英玻璃、光纤、光刻版、LED元件、光伏硅片半导体硅片、光学玻璃、石英晶体、半导体封装、敷铜箔层压板、高精度印制电路板以及金属、橡胶、塑料等生产中对各种表面进行光清洗或光改质处理。
　　随着电子器件的高性能、微型化、高集成化，生产制程工艺中对器件表面的清洗要求越来越高，清洗工艺也越来越难。比如，有的工艺要求有机污染物要控制在一个分子、原子层以下。常规的清洗方法如水洗、化学溶液洗、超声波清洗等已不能满足工艺制造要求。在等离子清洗方式可能造成精密器件损坏的情况下，UV短波长光清洗技术是难得的一种超精密清洗手段。
　　光清洗处理可在大气中进行，简单方便，环保无二次污染，无需加热、药液等，对环境友好。在受到环境限制的无奈中，干式光清洗表面处理技术是受很多客户青睐的制程工艺。
　　高压研究水银放电管发出的具有一定代表性的紫外线是365nm，光子进行能量328 KJ/mol；而低压水银放电管发出的具有重要代表性的紫外线是253.7nm及184.9nm，光子产生能量水平分别为472 KJ/mol和647 KJ/mol;准分子放电管（Xe2*）的波长172nm，光子能量分别为696 KJ/mol。为了打破分子的结合，使用发射比分子结合更多能量的光源。比365nm线的能量高的分子进行结合我国很多，但大多数学生有机知识分子的结合能比172nm线的能量低。准分子放电管和低压放电管要比高压放电管以及其他放电灯更适合表面处理等需要分解有机物的领域，能切断绝大多数的有机分子结合。紫外线照射固体表面后，被表面结合的有机污染物被强光能切断，氧化，然后分解成挥发性物质如CO2和H2O，最后挥发性物质消失。表面被清洗后的其清洁度要求极高，能把膜状的油污清洗到单分子层以下。
　　UV表面清洗的特点
　　空气处理，简单方便，环保无二次污染，无需加热、化学溶液等处理。
　　○清洁度极高，单分子层以下，可以通过得到发展从来处理方式方法难以进行想象的清洁度、接着性。
　　○国内企业独有的超高出力短波长紫外线光源，仅需短时间（秒单位）照射，发挥自己强大的处理工作能力，从实验室发展进入中国产业结构应用。
　　○不损坏材料表面。
　　○相对于湿式清洗或等离子处理清洗技术成本低。
　　因此，在不受液体表面张力影响的情况下，可以方便地清洗超细线槽和细孔。
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